<menuitem id="d6vln"><font id="d6vln"></font></menuitem>

<bdo id="d6vln"><progress id="d6vln"><nobr id="d6vln"></nobr></progress></bdo><menuitem id="d6vln"></menuitem>

<bdo id="d6vln"></bdo>

<bdo id="d6vln"></bdo>
<menuitem id="d6vln"></menuitem>
<bdo id="d6vln"></bdo><bdo id="d6vln"><xmp id="d6vln"><bdo id="d6vln"></bdo>

<bdo id="d6vln"><progress id="d6vln"></progress></bdo>

TEL:400-0033-603

銷售熱線:

400-0033-603

 

總經理投訴電話:18009693519

我與貝意克的故事---人物專訪
最新:ESI大學及材料學科排行榜發布!
近日,科睿唯安公布了ESI最新統計數據。ESI收錄了12000多種學術期刊上發表的SCIE和SSCI近十年發表的論文和被引數據,具有廣泛的代表性,已經被全球普遍認可。
中國大陸一共418所高校有學科進入全球前1%,其中新增9所,無退出。新增高校為:西南民族大學、上海紐約大學、江蘇海洋大學、寧波工程學院、天津大學-新加坡國立大學福州聯合學院、陜西中醫藥大學、湖南工程學院、湖北經濟學院、山東工商學院。
展會邀約 | 貝意克與您相約2023中國國際先進陶瓷展覽會
2023中國國際粉末冶金、硬質合金與先進陶瓷展覽會將于2023年5月31日至6月2日在上海世博展覽館H1&H2舉行。作為我國材料裝備行業標桿企業的貝意克設備也將攜旗下產品參加此次展會,展位號E662,歡迎各界朋友蒞臨展位參觀洽談。
印度將成為培育鉆石的最大市場
培育鉆石主要采用兩種方法生產——CVD(化學氣相沉積)和 HPHT(高壓高溫)。有趣的是,印度是通過CVD技術生產培育鉆石的最大生產國,占全球培育鉆石產量的近25%。該技術為消費者提供了所有領先的鉆石認證機構認證的最純凈的IIA型鉆石。即使在開采的鉆石中也很難找到IIA級質量的鉆石,因為只有2%的開采鉆石是最純凈的鉆石類型。通過HPHT方法生產的低密度鉆石在中國通過不同的技術生長,其硬度與開采鉆石或CVD生長鉆石不同,并且還含有金屬雜質。

 ------- 實驗室預約 -------- 

微信公眾號

安徽貝意克設備技術有限公司

合肥百思新材料研究院

合肥歐萊迪光電科技有限公司

我要留言

歡迎點擊留下您寶貴的意見

我們會在第一時間給您回復

Copyright 2017  安徽貝意克設備技術有限公司   皖ICP備12002778號-1   技術支持:中企動力  合肥

等離子輝光滑軌PECVD系統
設備型號:PECVD-500A/PECVD-S-150A 設備簡介:PECVD高溫真空爐加熱腔體采用氧化鋁纖維制品,其極低的熱導率和比熱容,保證了爐膛的快速升溫和低蓄熱,特別適合于科研單位的材料工藝研究。加熱元件選用電阻絲加熱,有利于爐內溫度場的均勻分布。高溫真空電阻爐溫度控制系統采用經典的閉環負反饋控制系統,控溫儀表選用智能型程序溫度調節儀表控溫,電力調制器控制;負載采用小電壓大電流控制,從而大大提高了發熱元件的壽命,測溫元件采用K型熱偶。采用單回路溫控儀能夠自整定PID 參數,無須操作人員的干預,可自行根據不同溫度曲線的升、降溫要求調整輸出信號,同時系統設置了超溫、欠溫、斷偶報警保護功能,大大降低了對操作人員經驗的要求,關鍵電氣元件采用優質的進口產品,做到高性能、免維護,提高了設備質量的可靠性。 應用領域:本設備主要針對實驗石墨烯生長和制備使用,同時該設備可以用于碳納米管的生長??芍苽涑龈哔|量的透明導電膜,用作手機觸摸屏,平板電腦,智能穿戴,傳感器等領域。
前端預熱滑軌式PECVD BTF-1200C-II-SL-PECVD
設備型號:BTF-1200C-II-SL-PECVD 設備簡介:我公司研制的滑軌式PECVD系統能使整個實驗腔體都處于輝光產生區,輝光均勻等效,這種技術很好的解決了傳統等離子工作不穩定狀態,這樣離子化的范圍和強度是傳統PECVD的百倍,并解決了物料不均勻堆積現象。該款設備是全自動Plasma增強CVD系統(PECVD),系統可以實現連續滑動溫區,連續可控制溫度及Plasma強度。PECVD是借助于輝光放電等方法產生等離子體,輝光放電等離子體中:①電子密度高109-1012cm3電子氣體溫度比普通氣體分子溫度高出10-100倍,使含有薄膜組成的氣態物質發生化學反應,從而實現薄膜材料生長的一種新的制備技術。②通過反應氣態放電,有效地利用了非平衡等離子體的反應特征,從根本上改變了反應體系的能量供給方式低溫熱等離子體化學氣相沉積法具有氣相法的所有優點,工藝流程簡單。
大口徑動態plasma輔助法卷對卷式石墨烯制備設備 RTR-150
設備型號:RTR-150 設備簡介: 該設備為我司研發用于材料連續生長的專用設備,此款設備是快速冷卻卷對卷等離子體增強CVD連續生長爐,它由高溫生長腔體,質量流量計氣路系統,真空機組,RF射頻電源模塊,石英管,冷卻裝置,收放卷的密封裝置,自動化控制系統組成,兩端分別安裝有進料進氣真空腔室和出料排氣真空腔室(即收放卷的密封裝置),收放密封裝置內分別對應安裝有放卷滾輪和收卷滾輪,所輸出料排氣腔體與爐體之間安裝有冷卻裝置。相對于現有技術具有快速冷卻、連續生長的優點。
小型滑軌式PECVD系統 BTF-1200C-S-SL-PECVD
設備型號:BTF-1200C-S-SL-PECVD 設備簡介:我公司研制的滑軌式PECVD系統能使整個實驗腔體都處于輝光產生區,輝光均勻等效,這種技術很好的解決了傳統等離子工作不穩定狀態,這樣離子化的范圍和強度是傳統PECVD的百倍,并解決了物料不均勻堆積現象。該款設備是全自動Plasma增強CVD系統(PECVD),系統可以實現連續滑動溫區,連續可控制溫度及Plasma強度。PECVD是借助于輝光放電等方法產生等離子體,輝光放電等離子體中:①電子密度高109-1012cm3電子氣體溫度比普通氣體分子溫度高出10-100倍,使含有薄膜組成的氣態物質發生化學反應,從而實現薄膜材料生長的一種新的制備技術。②通過反應氣態放電,有效地利用了非平衡等離子體的反應特征,從根本上改變了反應體系的能量供給方式低溫熱等離子體化學氣相沉積法具有氣相法的所有優點,工藝流程簡單。
微型PECVD系統
設備簡介:微型PECVD系統,它包括小型真空管式爐,石英真空室、真空抽氣與真空測量系統、氣路系統、射頻電源系統、物料噴射系統。電源范圍寬:0-150W可調; 溫度范圍寬:100-1200度可調;濺射區域寬:0-600mm可調;適用范圍寬:金屬薄膜,陶瓷薄膜等,復合薄膜,連續生長各種薄膜等。增加功能容易,可擴展等離子清洗刻蝕等功能。
前端預熱雙溫區滑軌PECVD BTF-1200C-II-SL-400C-PECVD
設備型號:BTF-1200C-II-SL-400C-PECVD 設備簡介:PECVD是借助于輝光放電等方法產生等離子體,輝光放電等離子體中:電子密度高109-1012cm3電子氣體溫度比普通氣體分子溫度高出10-100倍,使含有薄膜組成的氣態物質發生化學反應,從而實現薄膜材料生長的一種新的制備技術。通過反應氣態放電,有效地利用了非平衡等離子體的反應特征,從根本上改變了反應體系的能量供給方式,低溫熱等離子體化學氣相沉積法具有氣相法的所有優點,工藝流程簡單。 配有前端預加熱爐,輔助固態源蒸發,后端為單溫區加熱爐?,溫度控制精確,操作簡便,對于氣相沉積,二維材料,等離子處理生長工藝非常合適,也同樣適用于要求快速升降溫的CVD實驗。
上一頁
1
国产日韩一区在线观看视频_米奇欧美777四色影视在线_男女一边摸一边做爽爽的免费视频_午夜激情黄色日逼免费看

<menuitem id="d6vln"><font id="d6vln"></font></menuitem>

<bdo id="d6vln"><progress id="d6vln"><nobr id="d6vln"></nobr></progress></bdo><menuitem id="d6vln"></menuitem>

<bdo id="d6vln"></bdo>

<bdo id="d6vln"></bdo>
<menuitem id="d6vln"></menuitem>
<bdo id="d6vln"></bdo><bdo id="d6vln"><xmp id="d6vln"><bdo id="d6vln"></bdo>

<bdo id="d6vln"><progress id="d6vln"></progress></bdo>